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使用GLV (Grating Light Valve)技术,可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写;
选择关闭灰度写入功能,直写相同曝光面积,其直写速度将提升2倍;
构建独立设计库,可完成最高自由度的3D光刻,并支持标准图像源、个性化的3D设计源;
可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案;
灰度光刻0.5米x0.5米的面积只需要28个小时@0.5微米精度;
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